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島津 EDX-7200 能量散射型 X 光螢光光譜儀

Shimadzu EDX-7200 Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer · EDXRF

島津 EDX-7200 能量散射型 X 光螢光光譜儀搭配真空量測系統及 12 樣品自動轉盤,可進行固體、粉末與液體樣品的快速多元素分析。系統適用於寶石、礦物、金屬、玻璃、陶瓷、聚合物、塗層及其他材料的元素組成鑑別、半定量分析、定量分析與批次樣品比較。

島津 EDX-7200 能量散射型 X 光螢光光譜儀

儀器介紹

島津 EDX-7200 是一套能量散射式 X 光螢光光譜儀,可在較少樣品前處理的情況下,快速取得固體、粉末與液體樣品的元素組成資訊。

本系統搭載電子冷卻式矽漂移偵測器(SDD),量測時不需使用液態氮。儀器具有樣品觀察攝影機,可協助確認 X 光照射位置,並可依樣品尺寸與目標區域選擇不同的照射直徑。

本所配置真空量測系統與 12 樣品自動轉盤(12-sample turret/auto sampler)。真空量測可減少空氣對低能量 X 光螢光的吸收,提高輕元素的量測靈敏度,並增強玻璃、陶瓷、礦物及其他無機材料的元素分析能力。12 樣品自動轉盤可依設定順序自動切換最多 12 個樣品並進行連續量測,適合批次樣品、標準樣品、品質管制樣品及不同材料之間的比較分析。

EDX-7000 可用於材料的元素定性、半定量與定量分析,並可搭配校正曲線法、基本參數法及薄膜基本參數法等分析方式。透過樣品中各元素的特徵 X 射線,可協助判斷寶石與礦物的元素組成、金屬與合金種類、玻璃與陶瓷配方、塗層成分及環境管制元素。

儀器原理

能量散射式 X 光螢光分析法是以 X 光照射樣品,使樣品內原子的內層電子受到激發並產生空缺。外層電子遷移至較低能階填補空缺時,會釋放具有元素特徵能量的螢光 X 光。

不同元素所產生的 X 光螢光具有不同的特徵能量,因此可根據偵測到的能量位置判斷樣品中所含的元素; X 光螢光強度則可配合校正曲線或基本參數法,用於評估元素含量。

EDX-7000 使用矽漂移偵測器收集 X 光螢光,並依能量將訊號分離,形成元素特徵光譜。儀器可自動選擇照射條件、一次濾光片及照射直徑,以取得適合不同元素與樣品的分析結果。

真空量測系統藉由降低樣品室內的空氣含量,減少低能量螢光 X 射線在傳遞過程中的吸收,使輕元素訊號更容易被偵測。

12 樣品自動轉盤可依預先設定的分析條件,自動將不同樣品依序移動至量測位置,完成連續且一致的批次分析。

應用範圍

  • 寶石與礦物的主要元素及微量元素組成分析
  • 不同寶石、礦物及岩石樣品的元素組成比較
  • 翡翠、軟玉及其他玉石的元素特徵分析
  • 紅寶石、藍寶石、祖母綠及其他彩色寶石的元素篩選
  • 天然、合成及處理寶石的輔助鑑別
  • 寶石產地研究中的元素特徵比較
  • 玻璃、陶瓷、釉料及水泥材料的元素組成分析
  • 金屬、貴金屬、焊料及合金材料鑑別
  • 鍍層、薄膜及表面材料的元素組成分析
  • 聚合物、塑膠、橡膠及樹脂中的無機元素分析
  • 顏料、粉末、填料及未知固體材料分析
  • 液體樣品中的元素組成篩選
  • RoHS、ELV 及其他環境管制元素的篩檢
  • 鹵素元素中氯及溴的篩選分析
  • 不同批次原料與成品的元素組成比較
  • 異物、沉積物及污染物的元素鑑別
  • 標準樣品、品質管制樣品及批次樣品的自動連續分析
  • 薄膜與鍍層的元素組成及厚度分析
  • 礦石與選礦樣品的品位分析

儀器規格

儀器型號 Shimadzu EDX-7200
儀器類型 能量散射型 X 光螢光光譜儀
英文技術名稱 Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometry
量測原理 X 光螢光分析法
元素分析範圍 Na 至 U
適用樣品 固體、粉末與液體
X 射線管靶材 Rh 靶
X 射線管電壓 4–50 kV
X 射線管電流 1–1000 μA
偵測器 矽漂移偵測器(SDD)
偵測器冷卻方式 電子冷卻,不需液態氮
照射直徑 1、3、5、10 mm 自動切換
一次濾光片 5 種,含開放位置共 6 種條件,可自動切換
樣品觀察系統 半導體攝影機
量測環境 空氣與真空
真空系統 真空量測單元
自動換樣系統 12 樣品自動轉盤
定量分析方法 校正曲線法、共存元素修正法、基本參數法、薄膜基本參數法及背景基本參數法
分析軟體 Shimadzu PCEDX 系列軟體,依本所實際安裝版本為準
主要用途 元素定性、半定量、定量、材料鑑別及批次樣品比較

樣品需求

固體樣品可依其尺寸、形態及分析目的直接放置於適合的樣品位置進行量測。

粉末與液體樣品可裝入適用的 XRF 樣品杯,並搭配適當的 XRF 薄膜進行分析。

樣品的目標分析區域應可對準儀器的 X 光照射位置。

進行批次分析時,各樣品應使用一致的樣品容器、裝填方式及量測條件。

寶石、礦物、金屬、玻璃及陶瓷等固體材料,建議提供具有代表性的分析表面。

粉末樣品建議均勻裝填,使量測表面平整且具有代表性。

液體樣品應使用適合 XRF 分析的樣品杯及薄膜。

實際照射直徑、真空條件及分析方法,將依樣品尺寸、形態、元素種類及分析目的進行選擇。